主要用途

 

⒈  主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

 

⒉ 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、

 

銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片

 

的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

 

工作方式                                   

 

本機(jī)為單面對(duì)準(zhǔn)、單面曝光。

 

主要構(gòu)成

 

主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微鏡顯示系統(tǒng)、采用高均勻

 

性的多點(diǎn)光源、 蠅眼、LED、曝光頭，PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式無(wú)油真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件等組成。

 

主要功能特點(diǎn)

 

⒈適用范圍廣

 

適用于Φ100以下(***小尺寸為Φ5mm)，厚度5mm以下的各種基片 (包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。

 

⒉分辨率高

 

采用高均勻性的蠅眼曝光頭，非常理想的三點(diǎn)式自動(dòng)找平機(jī)構(gòu)和穩(wěn)定可靠的真空密著裝置，使本機(jī)的曝光分辨率大為提高。

 

3. 套刻精度高、速度快

 

采用版不動(dòng)片動(dòng)的下置式三層導(dǎo)軌對(duì)準(zhǔn)方式，使導(dǎo)軌自重和受力方向保持一致，自動(dòng)消除間隙；承片臺(tái)升降采用無(wú)間隙滾珠直進(jìn)導(dǎo)軌、氣動(dòng)式Z軸升降機(jī)構(gòu)和雙簧片微分離機(jī)構(gòu)，使本機(jī)片對(duì)版在分離接觸時(shí)漂移特小，對(duì)準(zhǔn)精度高，對(duì)準(zhǔn)速度快，從而提高了版的復(fù)用率和產(chǎn)品的成品率。    

 

⒋ 可靠性高

 

采用PLC控制器、進(jìn)口電磁閥和按鈕、獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和經(jīng)過(guò)精密機(jī)械制造工藝加工的零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性且操作、維護(hù)、檢修簡(jiǎn)便。

 

⒌ 特設(shè)“碎片”處理功能

 

解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片